ASTM F 1259M-1996 检测由电迁移造成的喷镀金属开路或阻力增加失效率用的平板、直线试验结构设计的标准指南(米制单位)
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时间:2024-05-12 04:31:52
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【英文标准名称】:StandardGuideforDesignofFlat,Straight-LineTestStructuresforDetectingMetallizationOpen-CircuitorResistance-IncreaseFailureDuetoElectromigration[Metric]
【原文标准名称】:检测由电迁移造成的喷镀金属开路或阻力增加失效率用的平板、直线试验结构设计的标准指南(米制单位)
【标准号】:ASTMF1259M-1996
【标准状态】:现行
【国别】:美国
【发布日期】:1996
【实施或试行日期】:
【发布单位】:美国材料与试验协会(ASTM)
【起草单位】:ASTM
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:电气工程;电压;电路;集成电路;半导体工程;直的;导向装置;喷镀金属
【英文主题词】:electricalengineering;straight;circuits;integratedcircuits;voltage;semiconductorengineering;guides;metallization
【摘要】:
【中国标准分类号】:J04
【国际标准分类号】:17_220_20;31_200
【页数】:2P;A4
【正文语种】:英语
【原文标准名称】:检测由电迁移造成的喷镀金属开路或阻力增加失效率用的平板、直线试验结构设计的标准指南(米制单位)
【标准号】:ASTMF1259M-1996
【标准状态】:现行
【国别】:美国
【发布日期】:1996
【实施或试行日期】:
【发布单位】:美国材料与试验协会(ASTM)
【起草单位】:ASTM
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:电气工程;电压;电路;集成电路;半导体工程;直的;导向装置;喷镀金属
【英文主题词】:electricalengineering;straight;circuits;integratedcircuits;voltage;semiconductorengineering;guides;metallization
【摘要】:
【中国标准分类号】:J04
【国际标准分类号】:17_220_20;31_200
【页数】:2P;A4
【正文语种】:英语
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