ASTM E 1078-1997 表面分析中试样制备和安装程序的标准指南

作者:标准资料网 时间:2024-05-10 12:44:34   浏览:9774   来源:标准资料网
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【英文标准名称】:StandardGuideforProceduresforSpecimenPreparationandMountinginSurfaceAnalysis
【原文标准名称】:表面分析中试样制备和安装程序的标准指南
【标准号】:ASTME1078-1997
【标准状态】:作废
【国别】:美国
【发布日期】:1997
【实施或试行日期】:
【发布单位】:美国材料与试验协会(ASTM)
【起草单位】:ASTM
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:试样;光谱学;螺旋电子光谱法;精整;分析;表面;金属;原子吸收分光光度测定法;X射线技术
【英文主题词】:augerelectronspectroscopy;testspecimens;finishes;atomicabsorptionspectroscopy;x-raytechnique;surfaces;metals;analysis;spectroscopy
【摘要】:
【中国标准分类号】:A43
【国际标准分类号】:71_040_50
【页数】:9P;A4
【正文语种】:英语


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基本信息
标准名称:一端固定式单管夹片
中标分类: 车辆 >> 车辆通用零部件 >> 紧固件
替代情况:JB 2334-79;转化为QC/T 375-1999
发布日期:
实施日期:1990-10-01
首发日期:
作废日期:
出版日期:
页数:3页
适用范围

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所属分类: 车辆 车辆通用零部件 紧固件
基本信息
标准名称:硅外延片
英文名称:Silicon epitaxial wafers
中标分类: 冶金 >> 半金属与半导体材料 >> 半金属
ICS分类:
替代情况:被GB/T 14139-2009代替
发布部门:国家技术监督局
发布日期:1993-02-06
实施日期:1993-10-01
首发日期:1993-02-06
作废日期:2010-06-01
主管部门:国家标准化管理委员会
归口单位:全国半导体材料和设备标准化技术委员会
起草单位:上海第二冶炼厂
出版社:中国标准出版社
出版日期:1900-01-01
页数:平装16开, 页数:8, 字数:11千字
适用范围

本标准规定了硅外延片的产品分类、技术要求、试验方法和检验规则及标志、包装、运输、贮存。本标准适用于在N型硅抛光片衬底上生长的N型外延层(N/N+)和在P型硅抛光片衬底上生长的P型外延层(P/P+)的同质硅外延片。产品用于制作半导体器件。

前言

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引用标准

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所属分类: 冶金 半金属与半导体材料 半金属